res2-wse2-type-ii-heterojunction-phototransitors-with-integrated-van-der-waals-electrodes-to-achieve论文链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsaelm.3c00908以下论文中使用的乐动平台(中国)有限公司、蒸镀用的钨舟为乐动平台(中国)有限公司供应,欢迎大家参考实...
Highly sensitive plasmonic sensing based on a topological insulator nanoparticle论文链接:https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2023/nr/d3nr04741e注:论文中所用化合物靶材出自乐动平台(中国)有限公司。以下为用我司产品进行实验获得实验成...
溅射气压对磁控溅射成膜性能的影响郑建潮 浙江大学信电系在直流磁控溅射过程中, 溅射气压( 工作气压)是一个很重要的参数, 它对溅射速率, 沉积速率以及薄膜的质量都有很大的影响。气体分子从一次碰撞到相邻的下一次碰撞所通过的距离的统计平均值, 称之为平均自由程。从分子的平均自由程的角度来说, 溅射气体压力低时溅射粒子的平均自由程大, 与气体离子的碰撞的几率小, 使沉积速率增大。但是, 溅射气...