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浅谈镀氧化铝膜

2022-09-13 14:40来源:乐动平台(中国)有限公司作者:乐动平台(中国)有限公司网址:http://www.erpwx.com
文章附图

1、氧化铝基本性能参数



2、镀氧化铝膜的特点

3、镀氧化铝膜的方法

 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法,蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种,其中电阻加热的温度可达1600℃,而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。

化学气相沉积主要以等离子体增强化学沉积法(PECVD)为主。PECVD是利用等离子体产生电子、活性基团,在基体表面进行化学反应,以薄膜或粉末形式沉积于基材表面,从而在基材薄膜上沉积一层氧化物膜。其中,进入的等离子气体(氩气)和反应气体(氧气)的体积比为100:20时薄膜的成分接近于Al2O3

4、镀氧化铝膜的影响因素

影响氧化铝膜性能的因素主要包括基材的选择、蒸镀原材料、基材温度、真空度等。其中,基材温度越高,越有利于形成均匀、致密的镀膜层。塑料薄膜在允许的使用温度范围内,随着温度升高,其热稳定性会降低,如果在高温高张力下的基材表面蒸镀氧化铝薄膜,冷却至环境温度的过程中基材收缩较大,而氧化铝膜的收缩率小,严重时会出现氧化铝膜层和塑料膜层分层、直至脱落。

5、氧化铝膜具有阻隔性的原因

不饱和的ALOx与基膜表面游离O形成饱和ALOx,形成对称稳定结构

②ALOx与基膜表面未饱和H形成H—O键,形成致密结构

非极性的H2O、O2等分子不易与极性的ALOx薄膜吸附,且ΔH<0



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